EUR 77.38 USD 65.82
Курс валют на 26.09.2018

Компанией TSMC был запущен процесс разработки 5-нм техпроцесса

20 декабря. Компанией TSMC был запущен процесс разработки современной технологии производства уникальнейших микросхем, которые обладают размер маленьких элементов в 5 нм. Данная информация разработчиками была поведана на конференции с потенциальными поставщиками, которая недавно проводилась в Тайване.

На сегодняшний день компания TSMC осуществляет тестирование 10 нм технологии производства. Это даёт надежду на скорый выпуск современных микросхем по такой уникальной технологии. Говоря о 7 нм, следует отметить, что первым чипом, функционирующим по данной технологии, является SRAM. Имеется информация, что выпущен он был в октябре месяце текущего года. Полномасштабное массовое производство SRAM налажено будет к 2017 году. Касательно технологии 5 нм известно пока очень мало.

В настоящее время процесс разработки такой технологии находится на начальном уровне. При этом компания-разработчик еще пока решает, что применять при производстве пластин. Ожидается, что основой в данном случае будет ультрафиолетовая экстремальная литография. Специалисты в данной области отмечают, что лучше всего будет совместить ультрафиолетовую литографию непосредственно с особой технологией типа193-immersion, являющейся очень сложной и дорогой.

Стоит отметить, что 193і требует четырёхкратного наложения специального подслоя металла, а также трёхкратного наложения переходов между слоями. Применяя технологию 193і можно основательно снизить скорость роста кристаллов, свойственных для 5 нм. Вместе с этим литография обладает большей производительностью, а также меньшими затратами энергии, однако является довольно сырой для промышленного производства.



 
Технологии
Добавил: Чернышов Виталий 20-12-2015, 18:07

Читайте также
Добавить комментарий



Кликните на изображение чтобы обновить код, если он неразборчив



ПОСЛЕДНИЕ НОВОСТИ